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XPS秘笈分享連載(一)微區分析之精確導航-SXI

2020年7月4日

X射线光电子能谱(XPS)作为重要的表面分析方法,可以对样品表面的元素组分和化学态进行定性和定量分析,已经广泛应用于科学研究和工业生产中。前期的网络专题讲堂为大家讲解了XPS的基本原理、仪器结构、实验技术和数据处理这些内容,受到大家广泛关注和支持。工欲善其事,必先利其器,接下来我们将陆续推出系列网络课程,通过每期30分钟的课程跟大家分享先进XPS技术的独门秘笈。

 

如何在微观尺度理解构效关系是提高材料/器件性能的关键,也是当前研究的重点。在科学研究和失效分析中,发现微观尺度下材料的表面并非均匀存在的,而是作用区域呈现局域化特点,所以微区分析对于真正理解构效关系尤为重要。常规XPS分析通常是采用数百微米的X射线束斑获取样品表面平均信息,难以分析局域化特征。如何对局域特征结构进行精确定位,是微区分析的先决条件。

在本期网络课堂中,重点讲解了XPS微区分析之精确导航利器-SXI(X射线激发的二次电子影像,X-ray induced secondary electron images):SXI与采谱同源、同光路、同探测器,可保证对分析点零误差精准定位;可观察到光学系统很难探测的表面污染以及形貌特征等;通过SXI成像可以对感兴趣区域进行定义点分析、多个分析点、线分析和面分析。

 

 

此次直播在讲解知识的同时与大家进行了积极互动,并且收到了广泛的好评。也请继续关注PHI CHINA,将为您带来更多XPS分析秘笈。

 

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