Tin tức & Sự kiện

2017先进功能材料及计算材料国际研讨会于2017年1月7至8日在深圳成功召开。该会议由清华-伯克利深圳学院（TBSI）、清华大学深圳研究生院共同主办。此次会议吸引了来自中国、美国、日本、香港等多个国家和地区200多位专家学者、高校师生和政界参与，从学术和产业化视角探讨先进功能材料和计算材料的研究进展，以及将两者结合促进相关产业发展的现状。   本次会议是清华-伯克利深圳学院（TBSI）主办的首次国际研讨会，在举办前期即获得了广泛关注和热情参与，研讨会将为国内外杰出科学家与企业家搭建一个交流与合作的平台，以推动先进功能材料及计算材料学的应用进程。高德英特PHI China公司有幸以参展商的身份获邀参会，包括公司中国区执行总监叶上远先生和高级销售经理鲁德凤都参加了本次会议, 并在此次大会上展示了光电子能谱(XPS)，俄歇能谱(AES)和飞行时间二次离子质谱(Tof-SIMS)等的最新技术和相关产品。而高级销售经理鲁德凤女士就这些产品的功能、性能和所涉及的相关技术应用问题，为现场的各位专家、教授进行了逐一解答。   高德公司在会议中设置的展台   2017先进功能材料及计算材料国际研讨会大会现场

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第三届亚洲粘土会议（The 3rd Asian Clay Conference）于2016年11月18日至20日在广州成功召开。该会议由中国科学院广州地球化学研究所主办，西南科技大学、中国矿物岩石地球化学学会、国家自然科学基金委员会及广州市科学技术协会协办。   此次会议吸引了来自海内外近百所知名高校及科研机构的250多名专家参会，我司有幸以参展商的身份获邀参会。结合此届会议主题“小尺度，大科学”（Small Size, Big Science）及大会研究讨论的方向——粘土地球科学、粘土与环境、粘土功能型材料、粘土纳米粒子和健康、粘土与微生物、分子模拟/表征技术的粘土矿物研究等，我司在此次大会上集中展示了TOF-SIMS产品。该产品引起了众多行业专家、教授的广泛关注。我司高级销售经理鲁德凤女士就该产品的功能、性能并结合与会专业人士研究中所涉及的相关问题，为现场的各位专家、教授进行了逐一解答。   此次会议给我司提供了一个与各国及各领域专家、学者进行沟通与交叉交流、学习的平台，不仅展示了我司的最新产品，也提升了我司在该领域的品牌知名度和影响力。   高德公司在会议中设置的展台   高级销售经理鲁德凤女士为现场的各位专家、教授进行了逐一解答

致各位老师、专家和单位人员：   高德将会在仪器讯息网上进行网络讲堂，讲者为高德的叶上远先生，题目是「飞行时间二次离子质谱仪在最新的MS/MS串联技术后的研究应用和突破」，现欢迎各位参加。   网络讲堂的详情如下： 　　　　　　　　　　日期： 2016年12月02日 (星期五) 　　　　　　　　　　时间： 早上十时正至十一时三十分 　　　　　　　　　　题目： 飞行时间二次离子质谱仪在最新的MS/MS串联技术后的研究应用和突破   内容简介： 飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）一直被广泛应用在科研和工业领域中，例如在半导体的杂质分析、高技术的微观尺度材料分析以及聚合物和有机材料的剖析中。 TOF-SIMS在表面分析中虽然有着极高的表面灵敏度和亚微米级的空间分辨率等优势，但当每次检测一些添加剂和聚合物组成的混合物时都会面临如何正确解析数据和判定成分的实际困难。为了解决这个问题，ULVAC-PHI公司开发了配备有非破坏性串联质谱（MS/MS）的TOF-SIMS仪器，并将其应用到各种有机材料和生物应用当中。MS / MS的出现不仅使质谱分析变得更容易，而且在对分析结果的判定方面有了实质性的飞跃，不再是对分析结果的猜测，而是获得明确清晰的答案。在本次报告中，我们将详细介绍该仪器和新技术的基础原理及应用，让大家更全面、细致的了解该仪器如何在现今的科研工作中帮忙解决各种实际的问题。   如果有兴趣的话，可在 http://www.instrument.com.cn/webinar/meeting/meetingInsidePage/2218报名。   高德英特（北京）科技有限公司 ULVAC-PHI Incorporated

2016 ULVAC-PHI 国际销售会议于2016年10月11至14日在日本成功召开。ULVAC-PHI 国际销售会议每两年一次，销售团队来自世界各地，本届销售团队包括欧洲、美国、韩国、俄罗斯、马来西亚、菲律宾和香港等等。在这个会议上，高德多年来的努力得到ULVAC-PHI的认同，我们非常荣幸能收到ULVAC-PHI的奖座和赞赏。   ULVAC-PHI 的奖座   ULVAC-PHI 国际销售会议大合照

二次离子质谱仪（SIMS）是用来检测材料的一种仪器，而其中飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）更是重要的表面化学分析手段之一，可用于多种固体样品的直接分析。同时TOF-SIMS是一种非常灵敏的表面分析技术，可以精确确定样品表面元素的构成：通过对分子离子峰和官能团碎片的分析可以方便地确定表面化合物和有机样品的结构，配合样品表面的扫描和剥离，可以得到样品表面甚至三维的成分图，具有更高的分析精确度。   于2016年10月8日至11日在中科院大连化学物理研究院举行的“第六届中国二次离子质谱会议”（The 6th Chinese National Conference on Secondary Ion Mass Spectrometry，SIMS），即是为推动我国二次离子质谱研究的发展而举办的会议，此次会议吸引了海外SIMS领域的专家及国内SIMS研究人员近百位参会。   第六届中国二次离子质谱会议是一个国际性的盛会。大会其邀请到一共一百多名国内外SIMS研究人员出席了会议，当中包括上届国际SIMS大会主席、英国国家物理实验室Ian Gilmore教授，美国分析化学杂志(Analytical Chemistry)副主编、瑞典歌德堡大学Andrew Ewing教授和日本京都大学Jiro Matsuo教授等等。另外，台湾中央研究院薛景中教授（Prof.Jing-Jong Shyue），ULVAC-PHI的饭田真一博士及高德PHI北京公司叶上远 (Wensly Yip)等与会专家就SIMS仪器的研发、理论发展及其在不同领域的开拓应用进行了精彩的专题报告（Prof.Jing-Jong Shyue,《Depth profiling of soft materials with cluster-atomic ion co-sputter》; 饭田真一博士,《Easy Compound Identification in TOF-SIMS By using Parallel Imaging MS/MS》; 叶上远 Wensly Yip,《Analyzer Acceptance Angle & The Advent of 3D Chemical and Molecular Imaging by FIB-TOF Tomography》）,并引发了参会人员的热烈讨论。   此次会议为我司与二次离子质谱科技界提供了一个学术、技术交流及合作的平台，使与会者更对我司最新产品有了充分了解，也使得我司进一步明确了二次离子质谱仪未来发展趋势和用户需求需求。   第六届中国二次离子质谱会议会议现场   高德中国区总监叶上远正在作专业的报告   ULVAC-PHI 分析室專門室長飯田真一正在作專業的報告

2016年9月，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所（以下简称苏州纳米所）在苏州成功举办了2016表面分析技术光电子能谱仪应用研讨会。   此次研讨会汇聚了来自胜科纳米（苏州）、苏州晶湛半导体、宝钢研究院分析测试中心、大连理工大學、上海师范大学等业界同行及科研机构师生共五十余名精英。与会人员就光电子能谱的最新发展以及应用进行了深入的探讨和交流。此次会议还成功邀请清华大学测试中心李展平教授、台湾中央研究院薛景中教授、高德英特公司叶上远先生以及ULVAC-PHI公司漆原宣昭教授到会并分享了精彩的报告。   苏州纳米所是由中国科学院与江苏省人民政府等共同创建的国家研究机构，在表面分析行业内一直是科研方面的领军单位之一。作为此次研讨会的主办方，苏州纳米所对于ULVAC-PHI公司的研发能力和产品制造一贯给予充分的认可和肯定。在此次会议之前，苏州纳米所刚刚向ULVAC-PHI公司采购了多功能扫描式X射线光电子能谱分析仪（PHI5000VersaPraobe II）。苏州纳米所表示将充分利用自己的技术优势，最大限度的发挥该设备的功效。   2016表面分析技术光电子能谱仪应用研讨   高德叶上远先生正在作專業的報告   ULVAC-PHI 漆原宣昭博士正在作專業的報告

2016年全国表面分析科学与技术应用学术会议于2016年8月11-12日在云南昆明成功举办。100余名从事表面分析技术研究与应用的专家学者参加了会议。该会议由高校分析测试中心研究会、全国微束分析标准化技术委员会表面分析分技术委员会、北京分析测试协会表面分析专业委员会主办，昆明理工大学分析测试研究中心、国家大型科学仪器中心─北京电子能谱中心、昆明红源会展有限公司协办。   作为业界设备制造商代表，高德叶上远先生、ULVAC-PHI 公司宮山卓也先生和高德总经理陈文征博士获邀参会并在会上做了精彩的分享。叶上远先生的报告以“The study of how primary beam affect the analysis result in surface analysis”为主题；宮山卓也先生的报告主题则是“Introducing the newest MS/MS capability in the Time-of-Fight SIMS”。     相关新闻发布: 仪器讯息网   2016全国表面分析会议召开 应用领域与技术不断拓展 http://www.instrument.com.cn/news/20160815/199180.shtml   “让用户满意最重要”——访高德英特公司总经理陈文征博士 http://www.instrument.com.cn/news/20160810/198895.shtml   2016年全国表面分析科学与技术应用学术会议大合照   高德总经理陈文征博士正在作專業的報告   高德叶上远正在作專業的報告   ULVAC-PHI 的宮山卓也先生正在作專業的報告

高德英特公司与ULVAC-PHI公司共同出席了2016年8月10日在昆明理工大学举办的“2016中国表面分析应用与学术用户会议暨ULVAC-PHI最新技术说明会”。50余名ULVAC-PHI的用户和从事表面分析技术研究与应用的专家学者参加了此次会议。   高德英特公司是ULVAC-PHI公司在中国区域销售及售后服务的全权代表，二者于2007年建立了战略合作伙伴关系。目前，高德英特公司拥有一支由8名资深工程师组成的技术团队，团队成员全部具备原厂认证技术资质，能够为用户提供完整的解决方案和完备的售前&售后技术支持。   与会期间，ULVAC-PHI公司执行董事木村市朗先生和高德英特总经理陈文征博士分别致辞，表明ULVAC-PHI和高德英特公司作为一个团队将共同代表“PHI在中国”，并表示今后将进一步加强与广大用户的交流，同时欢迎广大用户对ULVAC-PHI的仪器和服务多提意见。考虑到曹立礼和刘庆华两位老师为PHI产品打入中国市场所作出的突出贡献，ULVAC-PHI在此次会议上还设立了一个特别环节，向这两位老师20多年来给予PHI的鼎力支持和协助表示了最郑重、最诚挚的感谢。   会间，叶上远先生和ULVAC-PHI的真田宪明博士、宫山卓也先生分别介绍了ULVAC-PHI的新产品、新技术和新应用。叶上远先生重点推介了ULVAC-PHI全球发布的新产品——多功能扫描XPS微探针PHI 5000 VersaProbe III，并向与会嘉宾介绍了ULVAC-PHI新近推出的用于PHI nano TOF II的MS/MS技术。   相关新闻发布: 仪器讯息网 高德英特与ULVAC-PHI在用户会上推出XPS重量级新品     高德中国区总监叶上远正在作專業的報告   ULVAC-PHI的木村市朗先生作出專業的報告

致各位老师、专家和单位人员：   PHI公司于30多年前进入中国，衷心感谢清华大学曹立礼老师和刘庆华老师当时的鼎力支持，使PHI在中国取得了第一次的成功，并为日后的发展奠下了重要的基石。多年过去了，PHI从美国公司到现在日美合并的ULVAC-PHI，在中国的发展经历过高潮与低谷，也经过了不短的一段空窗期。在2007年，通过在东南亚市场的密切合作，高德公司与Ulvac-Phi公司建立了战略合作伙伴关系，并且双方对于中国区业务的发展前景有着共同的期待和展望。在2010年1月1日，高德公司以“PHI在中国”的身份正式的在北京成立公司，旨在帮助广大中国用户更高效地使用ULVAC-PHI仪器，发挥仪器的最大功用，并推动相关科研工作的发展。在高德公司不懈地努力和各位老师及用户们的鼎力支持下，Ulvac-Phi在中国区业务逐渐摆脱了业务低迷的局面，重新一步一步的赢回了市场份额和用户的信任。   2016年将是高德公司和ULVAC-PHI中国区业务发展的关键一年。高德公司与ULVAC-PHI公司共同计划在中国区再一次举办ULVAC-PHI用户交流会，希望借此机会把Ulvac-Phi最新表面分析技术和应用介绍给广大用户和听取用户们对于表面分析应用最新的需求，同时也希望借此机会把所有表面分析的新老用户聚合起来，打造一个技术交流和共享的平台，更好地为广大用户提供服务。现就有关事项安排如下：   一、会议形式及内容 仪器使用和数据处理培训班 用户邀请报告 ULVAC-PHI表面分析技术最新发展和应用   二、重要时间、地点和会议安排 2016年8月8日、9日 -  昆明文汇酒店 全天报到 2016年8月9日　　-  昆明理工大学分析测试研究中心201室 　　　　　　　　2:30pm to 5:30pm　-　XPS 和AES仪器使用和数据处理培训班 2016年8月10日　-　昆明理工大学管经学院MBA中心502室 　　　　　　　　08:30am　-　用户会议致辞 　　　　　　　　08:40am　-　PHI在中国和全球的最新动态 　　　　　　　　09:00am　-　PHI 在XPS的最新发展方向和应用 　　　　　　　　09:30am　-　用户邀请报告 1 　　　　　　　　10:00am　-　小息时间 　　　　　　　　10:20am　-　PHI在AES仪器的最新发展和应用 　　　　　　　　10:40am　-　用户邀请报告 2 　　　　　　　　11:10am　-　PHI在Tof-SIMS的最新突破性发展 　　　　　　　　11:30am　-　午餐休息 　　　　　　　　12:15pm　-　合照 　　　　　　　　01:30pm　-　用户讨论交流 　　　　　　　　06:00pm　-　晚宴   三、会议收费 和 住宿安排 会议参会免费,并招待用餐。住宿统一安排于昆明文汇酒店, 住宿费用自理。 文汇酒店地址：昆明市五华区学府路253号（昆明理工大学莲华校区）    四、联系方式                               联系人：凌媚（手机 186 1249 8200，邮箱 may.ling@coretechint.com） 　　　　潘剑南（手机 186 1230 078，邮箱 nice.pan@coretechint.com) 公司电话：010-62519668 公司传真：010-62513509   欢迎各位老师、专家和单位人员，报名参会。 附件一：《高德公司 邀请函》附件二：《报名表》 请将填妥报名报发送至may.ling@coretechint.com。   高德英特（北京）科技有限公司 Ulvac-Phi Incorporated