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PHI CHINA自2月11日开始通过网络直播的方式，展开为期四周的光电子能谱专题讲座，获得了广泛关注和一致好评。为了满足大家热切的学习需求，PHI CHINA将推出“俄歇电子能谱专题”讲座，为期三天﹕3月11日至3月13日，每天下午三点准时开讲。

3月11日

鲁德风

AES技术基本原理、主要功能和应用

主要内容:

1. AES的基本原理:俄歇电子的产生、主要技术能力;空间分辨、检出限以及定性定量等;俄歇系统的基本构成和能量分析器的特点;
2. AES的主要功能:采谱、线扫描、成像、深度剖析等;冷脆断断面分析、原位FIB+EDS+BSE+EBSD全方位成分表征;
3. AES的主要应用:纳米材料、金属、半导体、催化材料、能源电池、太阳能光伏、膜层结构剖析等。

3月12日

辛国强

AES硬件简介、仪器功能及特点

主要内容﹕

1. 系统结构
2. 真空系统
3. 能量分析器基本原理
4. 电子枪及电子探测器
5. 离子枪基本原理
6. 俄歇仪器功能及特点

3月13日

叶上远

AES样品准备，数据采集和解说

主要内容﹕

1. 对于不同的分析目的，如何做相对应的样品制备
2. 简单的俄歇图谱解释，原图和微分谱与定性/定量分析
3. 如何使用软件和俄歇手册处理重叠峰
4. 俄歇峰背景扣除
5. 线扫和面扫数据分析
6. 如何使用LLS进行深度分析数据处理
7. 从导体到半导体俄歇分析，以及分析中电荷中和的方法

此次讲堂继续延用网络直播的形式，现场答疑。

PHI CHINA在表面分析领域多年深耕，专注表面分析的发展与科

研，希望本系列讲堂能帮您丰富知识，提升技能，与大家携手进一步推动表面分析技术的蓬勃发展。若您对课程安排或技术方面有任何疑

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